薄膜被认为是表面上的一层，其厚度从几分之一纳米（10-9米）到微米（10-6米）不等，在真空中进行薄膜镀膜主要有两种方法。第一个是PVD或物理气相沉积，第二个是CVD或化学气相沉积。PVD涉及粒子的物理运动，而CVD涉及化学反应。请注意，薄膜沉积还有许多其他类型和子集，但PVD和CVD是本文讨论的唯一两种。
对于PVD，有两种主要方法；蒸发和溅射。蒸发和溅射通常在真空下进行，原因是随着压力的降低（或系统在真空中的深度），蒸汽压力（物质从固体/液体变为气体的压力）降低，因此可以使用较低的温度。这有助于防止高温对被涂物的任何负面影响。此外，去除PVD的气氛，可以让蒸发的材料更直接地到达被涂物。
从下面的图A和图B可以看出，蒸发是相当直接的。真空室被抽空并施加热量，薄膜材料被蒸发到物体上。溅射稍微复杂一些，真空室和涂层材料之间应用了电位差。然后将惰性气体（如氩气）添加到真空室中，导致放电，将涂层材料分散到物体上。
CVD工艺涉及使用一种材料与被涂层物体上的另一种材料反应或分解。这通常是通过加热激活的，但在某些情况下也可以使用光或等离子体作为催化剂。正因为如此，CVD工艺往往在更高的温度下运行，这可能是一个问题，这取决于被涂覆的物体。
薄膜沉积有多种应用，包括：?
半导体制造、太阳能电池板、电池、电动操作涂层、产品表面处理，如装饰涂层、光学涂层或保护涂层。
那么，哪些Televac®产品对薄膜沉积是有用的？首先是MX200真空控制器与4A/7B真空计组合。这将提供从大气（1000托）到10-7托的真空测量。传感器用电缆连接到控制器上，可以进行远程显示，有许多模拟和数字通信选项，包括模拟0至10 V DC、EthernetIP、RS-232/RS-485和USB。
另一种选择是使用有源真空计。使用有源真空计，控制电子元件直接安装在传感元件上，在这种情况下，我们至少要使用两个有源真空计；MX4A热电偶真空计用于测量从大气压（1000 Torr）到10-3Torr，MX7B冷阴极真空计用于测量从10-3Torr到10-8Torr。类似的输出选项有模拟0至10 V DC、以太网IP和RS-485。请注意，许多有源真空计可以串联在一起，各种真空计可以用来实现与本文概述的不同测量范围。
